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      技術交流

      濺射(Sputtering)制備ZnO的方法

      ????? 濺射是帶電粒子轟擊靶材,使靶材粒子(團)被擊濺出來并淀積到襯底上成膜。如果靶材是Zn,沉積過程中Zn與氣氛中的O2發生反應生成ZnO,屬于反應濺射。若靶材是ZnO,沉積過程中無化學變化則為普通濺射法。濺射法要求較高的真空度,合適的濺射功率及襯底溫度。磁控濺射ZnO 薄膜,具有速率高、可有效抑制固相擴散、薄膜與襯底之間的界面陡峭等優點。決定ZnO薄膜微結構的主要因素是襯底溫度和濺射粒子的能量分布。保護氣一般用超高純氬氣,反應氣為氧氣。在反應濺射中,可能會有部分Zn與O2沒有反應完全,薄膜的特性不夠理想,不如用ZnO靶制備的薄膜質量好。
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