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      技術交流

      磁控濺射鍍膜機采購模板



      采購項目:磁控濺射鍍膜機 1 臺
      一、設備用途和功能特點:
      1 、該設備是一臺高真空鍍膜設備,適用于鍍制各種單層膜、多層膜??慑兘饘?、合金、化合物、半導體、陶瓷膜(需配射頻電源)、介質復合膜和其它化學反應膜??捎糜谟袡C材料的物理化學性能研究實驗、有機半導體器件的原理研究實驗、 OLED 實驗研究、有機薄膜電池研究及太陽能電池研究實驗等。
      2 、濺射鍍膜室
      1.1 三支 2 英寸磁控濺射靶(其中可鍍鐵磁材料的濺射靶一支)。
      1.2 樣品臺:可旋轉、可加熱、可升降。
      1.3 濺射方式:為避免微粒物質落到基片上,采用基片在上、磁控濺射靶在下的結構,即由下向上濺射。
      1.4 工作模式:可以采用單靶獨立、多靶輪流或組合共濺工作模式,向心濺射。
      1.5 磁控濺射靶射頻( RF )、直流 (DC) 兼容。
      1.6 磁控濺射靶面與基片的距離可調,這一功能為尋找最佳實驗參數提供了強有力的手段。
      1.7 為了保證鍍膜的工藝性(預濺射、多層膜、摻雜膜、防止交叉污染和干擾等),每只磁控濺射靶均配備擋板?;鋼醢?。
      1.8 磁控濺射靶頭可調角度,為尋找最佳濺射角度提供了手段。
      1.9 基片加熱器采用高溫加熱材料。
      3 、由于采用了超高真空密封技術,極限真空度高,可進入 2 × 10-5Pa 量級,
      恢復工作背景真空時間短,從大氣到工作背景真空( 7 × 10-4Pa )時間 30 ~ 40 分鐘(充干燥氮氣)。設備總體漏放率:關機 12 小時真空度≤ 10Pa 。
      4 、超高真空密封主要采用如下技術:玻璃金屬焊接技術、陶瓷金屬焊接技術、刀口無氧銅金屬密封技術等,整機主要采用金屬密封技術,真空管路用不銹鋼金屬波紋管路(不用橡膠管路),采用超高真空閥門。
      運動部件的密封,采用磁力耦合傳動密封技術。
      真空規用金屬規(不用玻璃規),密封口用刀口金屬密封結構。
      5 、系統自動監控和保護功能強,包括缺水欠壓檢測與保護、相序檢測與保護、溫度檢測與保護、真空系統檢測與保護等。
      6 、 PLC 智能控制系統一套,包括:可編程控制器( PLC ),液晶顯示觸摸屏,軟件。
      7 、數字式智能流量控制儀,可與電腦連網形,全自動閉環控制,一帶四。
      二、設備技術指標
      濺射鍍膜室
      1. 基片尺寸:≤ 3 英寸,基片加擋板。
      2 、基片加熱器溫度:室溫~ 600 ℃ ,可控可調。
      3 、基片架公轉速度 0 ~ 30 轉 / 分,可控可調。
      4 、基片架可加熱、可旋轉、可升降。
      5 、靶面到基片距離 60 ~ 100mm 可調。
      6 、 Ф2 英寸圓形平面磁控濺射永磁靶,可鍍鐵磁材料的磁控濺射靶 1 支,可鍍普通靶材的磁控濺射靶 2 支;靶材尺寸 Ф2 英寸。
      7 、鍍膜室的極限真空: 2 × 10-5Pa ,恢復工作背景真空 7 × 10-4Pa : 30 ~ 40 分鐘(新設備充干燥氮氣)。
      設備總體漏放率:關機 12 小時真空度≤ 10Pa 。
      8 、磁控濺射靶電源:射頻源 500W 、 13.56MHz ;直流濺射電源 1 臺, 1000W 。
      9 、質量流量控制器:氬氣( 100sccm )。
      三、工作條件:
      供電:~ 380V ,功率 6KW ;
      冷卻水循環量: 0.2m3/H ,水溫: 18 ~ 25 ℃;
      工作環境溫度: 10 ℃~ 35 ℃;
      氣動閥門供氣壓力: 0.6 ~ 0.8MPa ;
      質量流量控制器供氣壓力: 0.05 ~ 0.2MPa 。
      四、設備主要配置
      濺射鍍膜室
      1 、真空腔體一套;
      2 、前開門機構 1 套;
      3 、預留法蘭口若干,用于設備的功能擴展;
      4 、 CF150 高真空閘板閥 1 臺;
      5 、 CF35 高真空電控氣動旁抽角閥 1 臺;
      6 、真空抽氣不銹鋼波紋管路 1 套;
      7 、金屬高低真空規管各 1 支;
      8 、電磁截止閥 1 只;
      9 、質量流量控制器 1 臺;
      10 、玻璃金屬焊接觀察窗 1 套;
      11 、磁力耦合觀察窗擋板 1 套;
      12 、基片架 1 套;
      13 、基片加熱器 1 套,溫度:室溫~ 600 ℃ ,溫度可用電腦編程控制,可控可調;
      14 、電控基片擋板 1 套;
      15 、2 英寸磁控濺射靶 3 套(其中 1 套用于鍍鐵磁材料);
      16 、靶材 2 英寸(由用戶自備);
      17 、真空室烘烤照明裝置 1 套;
      18 、基片升降旋轉控制系統 1 套;
      19 、溫度傳感器 1 套,智能電腦溫控系統 1 套;
      20 、溫控電源 1 臺;
      21 、照明烘烤電源 1 臺;
      22 、濺射電源: 500W 、 13.56MHz 射頻電源 1 臺, 500W 直流恒流濺射電源 1 臺;
      23 、膜厚儀一臺 ( 含水冷探頭一只 );
      真空,電器部分
      1 、 600L /S 1 臺;
      2 、 4L /s 機械泵 1 臺;
      3 、前級帶放氣電磁閥 1 臺,前級電磁截止閥 1 臺;
      4 、真空室與分子泵聯接管路(不銹鋼) 1 套
      5 、前級三通 1 套,泵閥連接組件 1 套;
      6 、數字式流量顯示儀 1 臺(一帶 4 );
      7 、 1.6m 電控柜 1 臺;
      8 、總控制電源(機械泵、電磁閥、啟動等)
      9 、微機型復合真空計 1 套( 2 高 2 低)
      10 、設備機架一套
      其它
      1 、水欠壓斷水報警保護系統 1 套;
      2 、 相序檢測及報警保護系統 1 套;
      3 、溫度檢測及報警保護系統 1 套;
      4 、 真空檢測及報警保護系統 1 套;
      5 、 包裝材料、運輸及保險、安裝調試差旅費
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